電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，系統(tǒng)配有膜厚晶振儀，可以對(duì)膜厚進(jìn)行準(zhǔn)確的控制。設(shè)備采用觸摸屏控制，過程全自動(dòng)操作。
 

　　電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可以在全自動(dòng)化系統(tǒng)中獲得*可重復(fù)的結(jié)果，實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中提供可互換機(jī)頭的組合儀表。各個(gè)選項(xiàng)，如石英晶體測(cè)量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺(tái)低真空鍍膜機(jī)。
 

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)參數(shù)：
 

　　可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
 

　　設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可準(zhǔn)確控制碳膜厚度
 

　　可選石英膜厚檢測(cè)器，準(zhǔn)確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm
 

　　全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
 

　　觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便
 

　　真空度7×10-3mbar
 

　　濺射電流：0-150mA可調(diào)
 

　　方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)，樣品倉(cāng)尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
 

　　工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm
 

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)指標(biāo)：
 

　　薄膜沉積模式： 噴碳，以及濺射(Pt等)
 

　　系統(tǒng)真空度： 10-6mbar
 

　　濺射靶材直徑： 54mm
 

　　碳絲蒸發(fā)較大功率： 700W
 

　　濺射電流： 15～150mA